Cообщи

Intel, Samsung и Toshiba объединяются

Обращаем ваше внимание, что статье более пяти лет и она находится в нашем архиве. Мы не несем ответственности за содержание архивов, таким образом, может оказаться необходимым ознакомиться и с более новыми источниками.
Редактор: Dzd.ee
Copy
Фото статьи
Фото: AFP / Scanpix.

Intel, Samsung и Toshiba объединяют усилия для разработки технологий по производству 10-нм микросхем. В результате слияния в 2016 году появятся 10-нм микрочипы.

В перспективе к альянсу присоединятся еще десять компаний из полупроводниковой отрасли. На стартовом этапе в проект предполагается вложить около $122 млн, пишет hi-tech.tochka.net.

Половину суммы, возможно, предоставит Министерство экономики, торговли и промышленности Японии (METI). Остальная половина будет разделена между членами альянса.

Производство микросхем по технологиям с нормами 10-нм планируется начать в 2016 году. Несомненно, такое объединение принесет выгоду всем участникам концорциума. Toshiba и Samsung смогут использовать этот техпроцесс при изготовлении чипов флеш-памяти NAND, а Intel начнет производство высокопроизводительных процессоров.
 

Ключевые слова

Наверх